扫描电镜（Scanning ElectronMicroscope；SEM）是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。扫描电镜的优点是，有较高的放大倍数，20-20万倍之间连续可调；有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；试样制备简单。目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪装置，这样可以同时进行显微组织性貌的观察和微区成分分析，因此它是当今十分有用的科学研究仪器。
原理
高能的入射电子轰击物质表面时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X
射线、背散射电子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射.
仪器技术参数
分辨率: 30 kV，3.0 nm(高真空模式),背散射电子分辨率30 kV，4.0 nm(高真空模式).放大倍率:×5
-×300,000.加速电压0.3 - 30 Kv.
送样要求
粉状样品1-5g之间，能把3-5mm直接样品填满即可。块状样品不能大于5mm宽，高度小于5mm.
应用领域
材料，粉体，矿物粒径大小，表面断面形貌分析,填料分散状态复合材料结构,材料晶型分析晶粒大
小,材料物相分析。元素定性分析。
适用标准
GB/T 16594-2008微米级长度的扫描电镜测量方法通则
GB/T 17362-2008黄金制品的扫描电镜X射线能谱分析方法
