金属铬靶材Cr99.9%，物理性质颜色银白色密度7.19g/cm3熔点1857℃技术指标纯度99.99%相对致密度
>99%切面平整度3.2Ra公差&plu**n;0.1mm晶粒度均匀材质Cr品牌ALLUTER产地广东深圳产品规格规格01多弧
靶：直径1mm规格02矩形：长度：不限宽度：不限厚度：不限矩形,圆形，管靶，可开台阶状打孔等(长宽可
拼接）规格03圆柱：外直径1mm壁度>1mm长度>1mm（管材/圆环/旋转靶材）规格:颗粒，粉末.规格根据用户
需要进行定制，来样加工，来图加工*少起订量1件，量大优惠交货期单片材料2日内发货，量大1到2周，原
材料各种尺寸大量备货，长期供应。
铟作为稀散金属在地壳中含量极低,但资源储量和产量分布极为集中。铟在战略性新兴产业发展中具有
极为重要的作用,是平板显示、电子半导体和光伏等产业不可或缺的原料,使其成为关注的热点。
显示行业主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节需要使用靶材溅射镀膜。用于高清电视、笔记本
电脑等。平板显示靶材技术要求也很高，它要求材料高纯度、面积大、均匀性程度高。半导体晶圆制造中
200mm（8寸）及以下晶圆制造通常以铝制程为主，使用的靶材以铝、钛元素为主。300mm（12寸）晶圆制
造，多使用先进的铜互连技术，主要使用铜、钽靶材。也用钛材料作为高介电常数的介质金属栅极技
术的主要材料，铝材料作为晶圆接合焊盘工艺的主要材料。
溅射镀膜的原理是在真空条件下，通过电子氩离子对靶材表面进行轰击，靶材表面材料以分子、原子
、离子或电子等形式被溅射出来，飞溅到基板上沉积成膜。目前镀膜行业使用的磁控溅射旋转靶材，包括
衬管，其两端端部上均设有内凹的密封槽，用于放置密封圈以达到安装后的密封性。由于旋转靶材衬管一
般由铝、铝合金、铜或铜合金制成，使得其自身强度不是很高，旋转靶材端部管壁较薄，在端部上设置密
封槽，减薄了端部管壁厚度，使得旋转靶材在安装过程中容易出现变形而安装不上等情况，从而需
要更换新的旋转靶材，造成极大的浪费。面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及触控屏电极平板。当前国内平
板显示和光伏产业发展迅速,ITO靶材制造技术不断取得突破,未来我国将可能会成为铟纯进口国,应大力发
展国内再生铟产业,建立健全铟储备机制,并加强与重要资源国的产能合作,保障国内新兴产业发展的资源需
求。
