工件出槽后应完全冲刷，留意盲孔中残留镀液，然后用洁净吸水抹布擦干、吹干，质检合格后应立即包装并清点入库，作好记载，禁止用手接触工件，禁止随便放置。
不合格镀层应退除后重镀，工件的基体不同，退镀液也不一样，铜基体上的化学镀镍层退镀液应与其它钢铁件区分开，避免退镀液中的Cu2+在其它工件上被置换出来。
槽液（包含前处理溶液）的保护管理特别重要，任何物件进入槽液前，必须先弄清它是什么材质，对槽液有何影响，并确保它不会给槽液带来任何损害，禁止随意将东西放入槽液，禁止不经除油、除锈，不经完全清洗进入镀槽，镀液中谨防带入Cu2+、Zn 2+、Ag +、Hg 2+、Cd 2+、Pb 2+、Fe 2+、Al 3+、Cu +、Sb 2+、NO 3-等水溶性杂质。
槽液每天的出产状况、保护补加状况及产品质量应由出产班组长在专用记载单上作详细记载，并定时将记载交于技能负责人查阅，并存档备检。
镀槽应定时整理，定时查看软PVC衬垫有无镀上或破损，及时处理或修补。
东莞市润庆化工有限公司成立于2004年，按用户需求专业生产配制各种开油水、洗网水、洗板水、洗面水.类等系列产品。另公司还配套代理进口、国产化工溶剂如；酮类，醇类，石油类，洗版水出售，酯类，苯类，醚类，抗磨液压油，亚么尼亚白胶，其他胶类品公司坚持“和谐发展，持续经营”的理念，恪守“诚信、求精、创新、超越”的企业精神，努力使公司的产品更臻完美，客户群日益壮大，我们愿与您携手合作共同创造美好的明天.
光刻胶高纯试剂 ：
光刻工艺是一种表面加工技能，在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要位置。为在表面完成选择性腐蚀，选用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层，称为抗蚀剂，国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶，按所用曝光光源和辐射光源的不同，又可将其分为紫外、远紫外、电子束、X 射线等光刻胶。
光刻胶是微细图形加工的一种要害试剂，要求水分低、金属杂质含量低（≤ 10 -6）
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对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的查验，一般常用原子吸收光谱、原子发射光谱、色谱、质谱比色化学分析等办法进行测定。其阴离子标准原则上参照试剂优级标准，没有优级标准的产品由生产单位自行拟定。
一般离纯试剂
是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等，常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等，金属单质的氧化物、用来制作标准溶液和作为标准物质，该类试剂常要求含量在4N-6N 之间。
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